国林科技：臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程
发布时间：2026-09-11 05:28:46 发布者：本站编辑
证券之星消息，国林科技(300786)09月08日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。
投资者：第三代半导体的专用薄膜沉积设备，公司是否有涉及？国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。关于公司的产品研发情况、详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行了解。感谢您对的关注。
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